能源知識庫

重點摘述

半導體廠歷年排放之空氣污染物中，氨氣佔空污排放第二大宗，亦為PM_2.5的主要來源之一。如果NH₃直接排放到大氣中，將會給人類健康帶來嚴重的問題，並導致各種環境問題。半導體廠主要以吸收法去除NH₃，透過調整pH值及提高換水量來達標，但會造成用水能耗遽增且仍無法達到空污排放標準的問題。本研究回顧離子液體去除氨氣之研究進程，取文獻中合成重要經驗，開發設計新型離子液體以用來去除微量氨氣。首先將導入弱酸性質子，提供極性官能基(如OH基)與NH₃形成分子間氫鍵；第二步導入金屬離子，提供金屬配位點與NH₃形成路易士酸鹼作用力，使材料具備多重活性點，發揮協同效應，可大幅提升與NH₃間之作用力，提升NH₃吸收能力。